Методы ионно-плазменного нанесения покрытий

Процессы ионно-плазменного нанесения (катодное, магнетронное, высокочастотное распыление и др.) позволяют формировать покрытия из металлов и сплавов, различных соединений и композиций.

Достоинства метода:

• более высокая прочность сцепления и плотность полученных покрытий из-за более высокой энергии распыленных частиц;
• формирование покрытий без изменения стехиометрического состава;
• возможность получения покрытий из особотугоплавких и неплавящихся материалов;
• возможность управления составом и свойствами покрытия в процессе нанесения;
• возможность очистки поверхности основы и растущего покрытия.

Основные недостатки метода:

• скорости напыления, как правило, ниже, чем при других вакуумных методах, за исключением магнетронного, где скорости осаждения покрытия достигают 25—45 им/с;
• количество загрязнений в материале покрытий несколько выше;
• объем камеры ограничивает размер изделия.